影響屏蔽效果的因素
作者:常州市聚能屏蔽設(shè)備有限公司 發(fā)布時(shí)間:2013-03-26 08:52:01 瀏覽量:0
影響屏蔽效果的因素
一、資料的導(dǎo)電性和導(dǎo)磁性越好,屏蔽效能越高,但實(shí)際的金屬資料不可能兼顧這兩個(gè)方面。例如Cu導(dǎo)電性很好,但是導(dǎo)磁性很差;Fe導(dǎo)磁性很好,但是導(dǎo)電性較差。應(yīng)該使用什么資料,根據(jù)具體屏蔽主要依賴反射損耗、還是吸收損耗來(lái)決定是偏重導(dǎo)電性還是導(dǎo)磁性;另外還要考慮制造的成本問(wèn)題,一般能夠滿足使用要求就是適合的屏蔽材料。
二、頻率較低的時(shí)候,吸收損耗很小,反射損耗是屏蔽效能的主要機(jī)理,要盡量提高反射損耗。
三、反射損耗與輻射源的特性有關(guān),對(duì)于電場(chǎng)輻射源,反射損耗很大;對(duì)于磁場(chǎng)輻射源,反射損耗很小。因此,對(duì)于磁場(chǎng)輻射源的屏蔽主要依靠資料的吸收損耗,應(yīng)該選用磁導(dǎo)率較高的資料做屏蔽材料。
四、反射損耗與屏蔽體到輻射源的距離有關(guān),對(duì)于電場(chǎng)輻射源,距離越近,則反射損耗越大;對(duì)于磁場(chǎng)輻射源,距離越近,則反射損耗越小。正確判斷輻射源的性質(zhì),決定它應(yīng)該靠近屏蔽體,還是原理屏蔽體,結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的一個(gè)重要內(nèi)容。
五、頻率較高時(shí),吸收損耗是主要的屏蔽機(jī)理,這時(shí)與輻射源是電場(chǎng)輻射源還是磁場(chǎng)輻射源關(guān)系不大。
六、電場(chǎng)波是容易屏蔽的平面波,其次,磁場(chǎng)波是難屏蔽的,尤其是1KHz以下的低頻磁場(chǎng),很難屏蔽。對(duì)于低頻磁場(chǎng),要采用高導(dǎo)磁性材料,甚至采用高導(dǎo)電性資料和高導(dǎo)磁性資料復(fù)合起來(lái)的材料。
轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處(影響屏蔽效果的因素:http://m.1kedo.com/gongsixinwen/9.html)
上一篇:屏蔽室讓人群遠(yuǎn)離強(qiáng)電磁 下一篇:屏蔽機(jī)房的基本原理和設(shè)計(jì)原則
上一篇:屏蔽室讓人群遠(yuǎn)離強(qiáng)電磁 下一篇:屏蔽機(jī)房的基本原理和設(shè)計(jì)原則




